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            高純氫制法和用途

            時間:

            高純氫 - 制法
            開放數據 可信數據
            以電解氫為原料,經催化脫氧、干燥、低溫吸附等凈化工藝而得。其制各方法還有低溫液化法、金屬氫化物氫凈化法、鈀膜擴散法、中空纖維膜擴散法和變壓吸附法等。

            高純氫 - 用途
            開放數據 可信數據
            高純氫主要用于大規模集成電路的制造,提供還原氣氛,作為配制SiH4/H2、PH3/H2、B2 H6/H2等混合氣的底氣。在電真空材料和器件生產過程中,對氫氣純度要求也很高。電子管的陽極、陰極和柵極等金屬器件,都需經過專門的燒氫處理。另外,在硅和砷化鎵的外延工藝中用作保護氣和運載氣。

            高純氫 - 安全性
            開放數據 可信數據
            ******。在很高的濃度時,可出現麻醉作用。接觸液體可引起******。易燃壓縮氣體。貯存于陰涼、通風倉庫內。倉溫不宜超過30℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應與氧氣、壓縮空氣、鹵素(氟、氯、溴),氧化劑等分開存放。切忌混貯混運。防止撞擊和曝曬。

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